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基于第一性原理的钴-碳酸盐-水合物赝电容材料电化学反应活性研究

材料科学 2023-03-14 v1

摘要

碳酸钴氢氧化物(CCH)是一种具有极高电容和循环稳定性的赝电容材料。此前有报道称 CCH 赝电容材料本质上为斜方晶系。近期结构表征揭示其本质上为六方晶系;然而,其 H 原子位置仍不明确。本工作中,我们进行了第一性原理模拟以确定 H 原子位置。通过模拟,我们考虑了晶体内部多种基本的去质子化反应,并从计算上评估了去质子化的电动势(EMF)(VdpV_\mathrm{dp})。与反应的实验电势窗口(<0.6< 0.6 V(相对于饱和甘汞电极(SCE)))相比,计算得到的 VdpV_\mathrm{dp}(相对于 SCE)值(3.053.05 V)超出了该电势窗口,表明晶体内部从未发生去质子化。这可归因于晶体中形成的强氢键(H-bonds),从而导致结构稳定。我们进一步通过考虑 CCH 晶体的生长机制,研究了实际电容材料中的晶体各向异性。通过将我们的 X 射线衍射(XRD)峰模拟与实验结构分析相关联,我们发现形成于 CCH {(1ˉ1ˉ1ˉ),(21ˉ1ˉ),(21ˉ1)}\{(\bar{1}\bar{1}\bar{1}), (2\bar{1}\bar{1}), (2\bar{1}1)\} 晶面(近似平行于 abab 面)之间的氢键可导致一维生长(沿 cc 轴堆叠)。

关键词

引用

@article{arxiv.2212.10814,
  title  = {First-Principles-Based Insight into Electrochemical Reactivity in a Cobalt-Carbonate-Hydrate Pseudocapacitor},
  author = {Kenji Oqmhula and Takahiro Toma and Ryo Maezono and Kenta Hongo},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2212.10814},
  year   = {2023}
}