中文

通过 Rabi 振荡超越衍射极限的量子光刻实验演示

量子物理 2016-03-30 v1 光学

摘要

光的衍射为光学光刻设定了根本极限。迄今为止,人们提出了许多量子光刻方案以克服这一极限,这些方案要么利用高度纠缠的光子、多光子过程,要么利用多重 Lambda 跃迁,但它们在实验上要求极高。最近,Liao 等人提出了一种新颖的量子光刻方案,仅利用 Rabi 振荡即可超越衍射极限。在此,我们报告了该方案的忠实实验实现。观测到的分辨率高达 Rayleigh 衍射极限的九分之一。我们还通过演示结合多个 Rabi 翻转与态选择性光学耗尽的峰窄化过程,在实验上测试了创建任意图案的可能性。我们的工作可能直接应用于量子信息或量子模拟应用中的原子图案工程,并有望在不久的将来推动量子光刻走向实际应用。

关键词

引用

@article{arxiv.1501.06707,
  title  = {Experimental demonstration of quantum lithography beyond diffraction limit via Rabi oscillations},
  author = {Jun Rui and Yan Jiang and Guo-Peng Lu and Bo Zhao and Xiao-Hui Bao and Jian-Wei Pan},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1501.06707},
  year   = {2016}
}

备注

5 pages, 3 figures