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原始及硫掺杂 Ta$_2$NiSe$_5$ 中的电子能带结构

材料科学 2022-09-14 v1

摘要

我们呈现激子绝缘体 Ta2_2NiSe5_5 电子能带结构的角分辨光电子能谱研究,以及其在硫掺杂下的演化。我们的实验数据显示,尽管在 25%\% 硫掺杂水平下激子绝缘相仍得以保持,但在液氮温度下存在大量(约 50%\%)硫掺杂时该相被严重抑制。此外,我们的光子能量依赖测量揭示了 Ta2_2NiSe5_5 与 Ta2_2Ni(Se1x_{1-x}Sx_x)5_5x=0.25,0.50x=0.25, 0.50)化合物中电子结构清晰的三维性。这表明电导率与热导率降低,可能使这些化合物较不适合于电子输运应用。

关键词

引用

@article{arxiv.2205.15883,
  title  = {Electronic band structure in pristine and Sulfur-doped Ta$_2$NiSe$_5$},
  author = {Tanusree Saha and Luca Petaccia and Barbara Ressel and Primož Rebernik Ribič and Giovanni Di Santo and Wenjuan Zhao and Giovanni De Ninno},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2205.15883},
  year   = {2022}
}