使用压印固体电解质印章的直接金属纳米压印

在本文中，我们报告了使用压印固体电化学印章直接图案化金属纳米结构的方法。探索了利用硅模板微成型固体超离子印章——类似于纳米压印光刻中的聚合物图案化。研究了硫化银（Ag2S）——一种具有优异微成型性能的超离子导体——作为候选材料。研究了超离子印章的重要参数，包括机械行为、成型过程中的材料流动以及压印后的特征恢复。在压印和蚀刻过程中均观察到了优异的特征转移性。为了说明该方法的能力，成功制备了间隙小于10纳米的银纳米天线。还展示了使用直径大于6毫米的印章进行大面积图案化的可能性。基于压印的金属图案化允许超越二维纳米加工，并报告了几种图案化方案。