磁性薄膜临界行为随厚度的变化

我们研究了磁性薄膜的临界行为随薄膜厚度的变化。我们采用了具有高分辨率多重直方图蒙特卡洛 (MC) 模拟的铁磁 Ising 模型。我们表明，尽管在较小厚度下二维行为仍占主导地位，但临界指数与其二维值之间存在系统的连续偏差。我们观察到，在相同的厚度变化范围内，指数 $\nu$ 的偏差相当小，而指数 $\beta$ 则经历了较大的偏差。我们利用 Capehart 和 Fisher 在有限尺寸分析中提出的“有效”指数概念来解释这些偏差。此处通过 MC 模拟获得的临界温度随薄膜厚度的偏移与他们的预测非常吻合。