拉格朗日晕偏置的一致性关系及其推论

晕形成的原晕斑块由施加在拉格朗日暗物质密度场上的若干约束所定义。这些约束中的每一个都导致原晕相对于物质的空间分布产生偏置。我们展示了这一空间分布的测量——原晕偏置因子的线性组合——如何能被用于推断晕形成的物理机制。我们的分析利用了以下事实：晕偏置因子满足编码了该物理机制的一致性关系，并且即使对于装配偏置起作用的子总体，这些关系也相同。我们使用一个涉及三个参数的模型来说明我们的方法：密度阈值、平滑密度场的局部斜率和曲率。后两者几乎退化；我们的方法自然地允许构建一个精确的有效双参数模型，其一致性关系仍然适用。这一点，加上对平滑窗口的精确描述，使得人们能够在傅里叶空间和构型空间中都很好地描述原晕-物质互相关。然后，我们利用对大尺度偏置参数的确定以及一致性关系，来估计原晕的拉格朗日半径尺度上的包围密度和平均斜率。这些量的直接测量是在比通常测量偏置参数更小的尺度上进行的，二者吻合良好。