HR-EBSD 与 X 射线线形分析所得位错密度的比较
材料科学
2017-04-05 v1
摘要
基于菊池衍射图样的互相关分析，高分辨率 EBSD (HR-EBSD) 是一种确定变形晶体材料内部应力的成熟方法。然而在许多情况下，不同扫描点获得的应力值具有较大的离散度（量级为 GPa）。正如 Wilkinson 及其同事首先证明的那样，这是由于系统中存在的位错产生的内部应力概率分布 具有长尾所致。根据 Groma 及其同事的理论研究， 的尾部呈反立方关系，其前置因子与总位错密度 成正比。在本文中，我们对变形 Cu 单晶的 X 射线线宽化和通过 EBSD 获得的 进行了直接比较。结果表明， 可以从 中确定。这为应用 EBSD 确定非均匀样品中的介观参数开辟了新的前景。
引用
@article{arxiv.1610.08915,
title = {Comparison of the dislocation density obtained by HR-EBSD and X-ray profile analysis},
author = {Szilvia Kalácska and István Groma and András Borbély and Péter Dusan Ispánovity},
journal= {arXiv preprint arXiv:1610.08915},
year = {2017}
}
备注
5 pages, 6 figures