模式质量对高角分辨率电子背scatter 反射衍射应力异质性和几何必需位错密度测量的影响
材料科学
2025-07-31 v1 地球物理
摘要
我们考察了模式质量对高角分辨率电子背scatter 反射衍射 (HR-EBSD) 分析输出的影响。以带 contrast 为模式质量的代理指标，通过调整每帧电子背scatter 图在数据收集期间平均的帧数来变化该指标。对变形样品中同一区域进行了 6 次映射，平均帧数分别变化于 1 到 30 之间。每个数据集均使用 HR-EBSD 进行分析，产生内部应力异质性和几何必需位错 (GND) 密度的图。随着平均帧数的增加，应力和 GND 计算中的噪声降低，揭示了映射区域中更细微的亚结构。具有低带 contrast 的最差像素通过增加帧平均数获得了最大改善，而具有高带 contrast 的像素则基本不受影响。此外，随着模式质量的提高，应力分布的概率分布趋于窄化，这也影响了基于应力分布统计分析推算的位错密度估计。由于高应力和/或高 GND 密度的区域通常在 HR-EBSD 图中具有兴趣且常与低带 contrast 相关，帧平均可作为提高此类分析质量的工具。最重要的是，在比较 HR-EBSD 数据集时应确保各组的平均带 contrast 相似，以确保观察到的差异源于微观结构而非数据收集的副作用。
引用
@article{arxiv.2507.22745,
title = {The Effect of Pattern Quality on Measurements of Stress Heterogeneity and Geometrically Necessary Dislocation Density by High-Angular Resolution Electron Backscatter Diffraction},
author = {Harison S. Wiesman and David Wallis},
journal= {arXiv preprint arXiv:2507.22745},
year = {2025}
}
备注
18 Pages, 5 Figures