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${}^{28}$Si 中 T 中心的表征

材料科学 2020-06-17 v1

摘要

硅承载了两个独立的前沿量子技术平台:集成硅光子学以及长寿命自旋量子比特。人们一直在寻找理想的光子-自旋接口,能够将这两种方法混合到单一硅平台中,从而提供大幅扩展的能力。已知若干硅缺陷具有自旋选择性光学跃迁,尽管其中极少已知位于高度理想的电信波段,且那些位于电信波段的往往不能与光强耦合。此处我们表征了硅中的 T 中心,一种高度稳定的硅缺陷,其支持一个短寿命束缚激子,该激子在复合时在电信 O 波段发光。在这项对 28{}^{28}Si 中 T 中心的首次研究中,我们展示了零声子线的温度依赖性,报道了窄至 33(2) MHz 的系综零声子线宽,并阐明了束缚激子的激发态谱。磁光致发光结合磁共振,用于观测 T 中心的十二个不同取向子集,由于束缚激子空穴自旋的各向异性 g 因子,这些子集可独立寻址。因此,T 中心是混合硅两大前沿量子技术平台的有力竞争者。

关键词

引用

@article{arxiv.2006.08794,
  title  = {Characterization of the T center in $^{28}$Si},
  author = {L. Bergeron and C. Chartrand and A. T. K. Kurkjian and K. J. Morse and H. Riemann and N. V. Abrosimov and P. Becker and H. -J. Pohl and M. L. W. Thewalt and S. Simmons},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2006.08794},
  year   = {2020}
}

备注

13 pages, 10 figures