拓扑能带绝缘体与 Mott 绝缘体界面相关的埋藏拓扑边缘态
强关联电子
2015-06-22 v1
摘要
我们在层动力学平均场理论框架内研究了拓扑能带绝缘体与 Mott 绝缘体界面处的电子结构。为了表示这些系统的体相,我们使用了广义 Bernevig-Hughes-Zhang 模型,该模型除了引起能带反转的自旋轨道耦合项外,还包含了类 Hubbard 的在位库仑能。通过适当选择较小和较大的值,分别实现了拓扑绝缘相和 Mott 绝缘相。正如预期,由于局域边缘态的存在,界面被发现是金属性的。然而,当 Mott 绝缘体中的库仑能接近临界值时,该边缘态在 Mott 绝缘体深处而非界面处表现出最大振幅。这一发现对应于由邻近拓扑能带绝缘体诱导的一种新型近邻效应,并表明由于 Mott 绝缘体内的自旋轨道耦合,界面附近的几个层从 Mott 绝缘相转变为拓扑绝缘相。此外,我们认为普通的近邻效应(即邻近金属态在 Mott 绝缘体中诱导 Kondo 峰)伴随着一种额外的反向近邻效应,通过该效应,Kondo 峰导致邻近金属层中的态密度增强。
引用
@article{arxiv.1408.6992,
title = {Buried topological edge state associated with interface between topological band insulator and Mott insulator},
author = {H. Ishida and A. Liebsch},
journal= {arXiv preprint arXiv:1408.6992},
year = {2015}
}
备注
11 pages; 9 figures