在温和条件下用原子洁净的镧系表面断裂分子氮
材料科学
2018-12-19 v1
摘要
通过在镧系薄膜上裂解 N2 气体并将其掺入，展示了一种在温和条件下断裂分子氮（N2）的途径。利用 X 射线衍射确认了镧系氮化物薄膜的成功生长，该薄膜通过在部分 N2 气氛中蒸发镧系元素制得，温度为室温、压力低至 10^-4 Torr。对暴露于 N2 气体的纯镧系薄膜进行的原位电导测量显示立即发生表面反应和较慢的体相反应。最后，我们报告了通过在样品室中循环真空与氮气条件，实现了镧系氮化物中氮掺入的部分可逆。通过在镧系薄膜上裂解 N2 气体并将其掺入，展示了一种在温和条件下断裂分子氮（N2）的途径。利用 X 射线衍射确认了镧系氮化物薄膜的成功生长，该薄膜通过在部分 N2 气氛中蒸发镧系元素制得，温度为室温、压力低至 10^-4 Torr。对暴露于 N2 气体的纯镧系薄膜进行的原位电导测量显示立即发生表面反应和较慢的体相反应。最后，我们报告了通过在样品室中循环真空与氮气条件，实现了镧系氮化物中氮掺入的部分可逆。
引用
@article{arxiv.1812.07160,
title = {Breaking molecular nitrogen under mild conditions with an atomically clean lanthanide surface},
author = {Felicia Ullstad and Gabriel Bioletti and Jay Chan and Audrey Proust and Charlotte Bodin and Ben J. Ruck and H. Joe Trodahl and Franck Natali},
journal= {arXiv preprint arXiv:1812.07160},
year = {2018}
}