非晶氟化硅与氟化 germania 中的键角分布
chem-ph
2008-02-03 v1 化学物理
摘要
重新确定了氟化 germania 和非晶氟化硅中 Ge-O-Ge 和 Si-O-Si 键角 α 的分布。连接相邻四面体的键角 α 是描述这些玻璃的连续随机网络 (CRN) 中的核心参数。 presenting 新的高能光子衍射实验数据（在 97 与 149 keV 光子能量下），覆盖 0.6-33.5 Å 的动量传递范围。在氟化 germania 的光子衍射实验中，OO 配对的贡献非常小。为获取类似的非晶氟化硅信息，采用高能光子衍射实验与中子衍射数据相结合，以消除 OO 部分结构因子。通过此技术显示，Si-O-Si 角分布相对较窄（σ=7.5°），实际上与 Ge-O-Ge 角分布相当（σ=8.3°），这与当前观点不同。发现的较窄分布更好地与 29Si-MAS-NMR 的测定结果一致。在各种将化学位移与键角关系的模型中，最佳一致性 found with 基于 secant 模型的模型。不可排除在 0.09 Å 空间分辨率下的锐利成分。
关键词
引用
@article{arxiv.chem-ph/9603004,
title = {Bond angle distribution in amorphous germania and silica},
author = {J. Neuefeind and K. D. Liss},
journal= {arXiv preprint arXiv:chem-ph/9603004},
year = {2008}
}
备注
12 pages LATEX, 13 Postscript figures, experimental data includes as LATEX comments