InAs 双阱中的全电子拓扑绝缘体
介观与纳米尺度物理
2015-02-10 v2
摘要
我们表明,具有面内调制周期势和阱间自旋 - 轨道相互作用的普通 III-V 族半导体双阱中的电子是可调控的拓扑绝缘体 (TIs)。此处,拓扑绝缘体的基本要素,即能带反转和谱中整体体隙的打开,分别源于:(i) 双阱偶 - 奇态分裂 与超晶格势的共同效应,以及 (ii) 带间 Rashba 自旋 - 轨道耦合 。我们通过解析的近自由电子描述证实了我们的精确对角化结果,该描述使我们能够推导出有效的 Bernevig-Hughes-Zhang (BHZ) 模型。有趣的是,门电压可调的 驱动了拓扑相变,其特征是在 meV 处出现不连续的 Chern 数。最后,通过考虑条带构型,我们明确验证了体 - 边对应关系,不仅确定了非拓扑相和拓扑相中的体能带,还确定了拓扑相中的边缘态及其类 Dirac 谱。边缘电子密度在衰减进入体区时表现出奇特的空间振荡。为具体起见,我们使用真实参数展示了基于 InAs 的阱的结果。
引用
@article{arxiv.1312.2034,
title = {An all electron topological insulator in InAs double wells},
author = {Sigurdur I. Erlingsson and J. Carlos Egues},
journal= {arXiv preprint arXiv:1312.2034},
year = {2015}
}
备注
8 pages, 6 figures