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InAs 双阱中的全电子拓扑绝缘体

介观与纳米尺度物理 2015-02-10 v2

摘要

我们表明,具有面内调制周期势和阱间自旋 - 轨道相互作用的普通 III-V 族半导体双阱中的电子是可调控的拓扑绝缘体 (TIs)。此处,拓扑绝缘体的基本要素,即能带反转和谱中整体体隙的打开,分别源于:(i) 双阱偶 - 奇态分裂 ΔSAS\Delta_{SAS} 与超晶格势的共同效应,以及 (ii) 带间 Rashba 自旋 - 轨道耦合 η\eta。我们通过解析的近自由电子描述证实了我们的精确对角化结果,该描述使我们能够推导出有效的 Bernevig-Hughes-Zhang (BHZ) 模型。有趣的是,门电压可调的 ΔSAS\Delta_{SAS} 驱动了拓扑相变,其特征是在 ΔSAS5.4\Delta_{SAS}\sim 5.4 meV 处出现不连续的 Chern 数。最后,通过考虑条带构型,我们明确验证了体 - 边对应关系,不仅确定了非拓扑相和拓扑相中的体能带,还确定了拓扑相中的边缘态及其类 Dirac 谱。边缘电子密度在衰减进入体区时表现出奇特的空间振荡。为具体起见,我们使用真实参数展示了基于 InAs 的阱的结果。

关键词

引用

@article{arxiv.1312.2034,
  title  = {An all electron topological insulator in InAs double wells},
  author = {Sigurdur I. Erlingsson and J. Carlos Egues},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1312.2034},
  year   = {2015}
}

备注

8 pages, 6 figures