有机-无机界面中埃级分辨率的界面结构
材料科学
2021-09-01 v1
摘要
由复杂界面电子结构支配的界面电荷传输过程在催化反应、能量存储、光伏及许多生物过程中起着关键作用。本文报道了首个埋藏界面（硼/聚对二甲苯-N）的软X射线二次谐波产生（SXR-SHG）界面光谱。SXR-SHG显示出在X射线吸收光谱中未观察到的独特光谱特征，证明了其非凡的界面灵敏度。与电子结构计算的比较表明，硼-有机物分离距离为1.9 Å，其中小至0.1 Å的变化会导致易于检测的SXR-SHG光谱位移（约数百meV）。由于SXR-SHG本质上是超快的且对单个原子层敏感，它为研究各种界面过程（例如催化）创造了可能性，具有超快时间分辨率和化学键特异性。
引用
@article{arxiv.2005.01905,
title = {{\AA}ngstr\"om-resolved Interfacial Structure in Organic-Inorganic Junctions},
author = {Craig P. Schwartz and Sumana L. Raj and Sasawat Jamnuch and Chris J. Hull and Paolo Miotti and Royce K. Lam and Dennis Nordlund and Can B. Uzundal and Chaitanya Das Pemmaraju and Riccardo Mincigrucci and Laura Foglia and Alberto Simoncig and Marcello Coreno and Claudio Masciovecchio and Luca Giannessi and Luca Poletto and Emiliano Principi and Michael Zuerch and Tod A. Pascal and Walter S. Drisdell and Richard J. Saykally},
journal= {arXiv preprint arXiv:2005.01905},
year = {2021}
}
备注
19 pages