电子束光刻中的邻近效应校正综述
介观与纳米尺度物理
2015-09-18 v1
摘要
本文回顾了电子束光刻中的邻近效应校正（PEC）工作，重点介绍了剂量修正与形状修正 PEC 技术。
引用
@article{arxiv.1509.05169,
title = {A Review of Proximity Effect Correction in Electron-beam Lithography},
author = {Pengcheng Li},
journal= {arXiv preprint arXiv:1509.05169},
year = {2015}
}