电子束光刻中控制侧壁形状的空间剂量分布优化
材料科学
2015-09-16 v1
摘要
电子束（e-beam）光刻广泛应用于二维图案和三维结构的制造。在应用中，可能需要保留的光刻胶轮廓具有特定类型或形状的侧壁，例如用于剥离工艺的底切和用于刻蚀的垂直侧壁，或者器件对此有要求。此外，随着特征尺寸缩小到远低于微米，侧壁斜率的微小变化都可能导致光刻胶某些层中显著的（相对）关键尺寸误差。因此，理解空间剂量分布对侧壁形状的影响并能够实现所需形状至关重要。在本研究中，通过仿真，分析了总剂量、剂量的空间分布、显影时间和侧壁形状之间的关系，以及为达到目标侧壁形状而开发的剂量分布优化方法的性能。仿真结果已通过实验验证。
引用
@article{arxiv.1509.04694,
title = {Optimization of Spatial Dose Distribution for Controlling Sidewall Shape in Electron-beam Lithography},
author = {Pengcheng Li},
journal= {arXiv preprint arXiv:1509.04694},
year = {2015}
}