原子层沉积生长的 ZnO、ZnMnO 和 ZnCoO 薄膜

M. I. Łukasiewicz; A. Wójcik-Głodowska; E. Guziewicz; A. Wolska; M. T. Klepka; P. Dłużewski; R. Jakieła; E. Łusakowska; K. Kopalko; W. Paszkowicz; Ł. Wachnicki; B. S. Witkowski; W. Lisowski; M. Krawczyk; J. W. Sobczak; A. Jabłoński; M. Godlewski

doi:10.1088/0268-1242/27/7/074009

原子层沉积生长的 ZnO、ZnMnO 和 ZnCoO 薄膜

材料科学 2013-08-12 v1

作者: M. I. Łukasiewicz , A. Wójcik-Głodowska , E. Guziewicz , A. Wolska , M. T. Klepka , P. Dłużewski , R. Jakieła , E. Łusakowska , K. Kopalko , W. Paszkowicz , Ł. Wachnicki , B. S. Witkowski , W. Lisowski , M. Krawczyk , J. W. Sobczak , A. Jabłoński , M. Godlewski

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摘要

尽管进行了许多努力，ZnMnO 和 ZnCoO 中铁磁 (FM) 响应的起源仍不清楚。对我们样品的磁性研究（此处不讨论）表明，仅在具有非均匀 Mn 或 Co 分布的合金中观察到室温 FM 响应。因此，控制其分布对于解释迄今为止报道的 ZnCoO 和 ZnMnO 相互矛盾的磁性至关重要。在本综述中，我们讨论了原子层沉积 (ALD) 生长方法的优势，该方法使我们能够控制 ZnMnO 和 ZnCoO 合金的均匀性。文中讨论了通过 ALD 生长的 ZnO、ZnMnO 和 ZnCoO 薄膜的性质。

关键词

原子层沉积 ZnO ZnMnO ZnCoO 铁磁性薄膜掺杂氧化物

引用

@article{arxiv.1308.2057,
  title  = {ZnO, ZnMnO and ZnCoO films grown by atomic layer deposition},
  author = {M. I. Łukasiewicz and A. Wójcik-Głodowska and E. Guziewicz and A. Wolska and M. T. Klepka and P. Dłużewski and R. Jakieła and E. Łusakowska and K. Kopalko and W. Paszkowicz and Ł. Wachnicki and B. S. Witkowski and W. Lisowski and M. Krawczyk and J. W. Sobczak and A. Jabłoński and M. Godlewski},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1308.2057},
  year   = {2013}
}

备注

41 pages, 19 figures, 48 references, review paper

原子层沉积生长的 ZnO、ZnMnO 和 ZnCoO 薄膜

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