利用原子层沉积在石墨烯上制备超薄氧化物薄膜
介观与纳米尺度物理
2012-06-21 v1 材料科学
摘要
本文提出了一种方法，利用原子层沉积 (ALD) 在石墨烯上制备并表征具有可控纳米级厚度、机械性能 robust 的独立式超薄氧化物薄膜。采用 ALD 将氧化铝薄膜沉积在悬浮石墨烯膜上，随后刻蚀掉石墨烯，仅留下厚度仅为几个原子的纯氧化铝薄膜。加压鼓泡测试表明，这些超薄薄膜的杨氏模量为 154 \pm 13 GPa。该杨氏模量与厚得多的氧化铝 ALD 薄膜相当。这种行为表明这些超薄二维薄膜具有优异的机械完整性。这些薄膜对标准气体也不渗透，表明其无针孔。这些连续的超薄薄膜有望在薄膜涂层、膜材料和柔性电子等领域开启新的应用。
引用
@article{arxiv.1206.4587,
title = {Ultrathin Oxide Films by Atomic Layer Deposition on Graphene},
author = {Luda Wang and Jonathan J. Travis and Andrew S. Cavanagh and Xinghui Liu and Steven P. Koenig and Pinshane Y. Huang and Steven M. George and J. Scott Bunch},
journal= {arXiv preprint arXiv:1206.4587},
year = {2012}
}
备注
Nano Letters (just accepted)