通过原子层沉积进行合成纳米孔的表面工程及其应用
介观与纳米尺度物理
2013-09-24 v1
摘要
在过去十年中，纳米孔已被广泛开发用于各种潜在应用，其性能很大程度上取决于纳米孔的表面性质。原子层沉积 (ALD) 是一种用于沉积薄膜的新技术，已从一项小众技术迅速发展为一种成熟的方法。ALD 薄膜甚至可以在纳米尺度的受限区域内共形地覆盖表面，因此被证明是修饰合成纳米孔表面以及制造复杂纳米孔的有力工具。本综述简要介绍了纳米孔合成和 ALD 基础知识，随后重点讨论了利用 ALD 处理合成纳米孔的各个方面及其应用，包括单分子传感、纳米流体器件、纳米结构制造以及其他应用。
引用
@article{arxiv.1309.5696,
title = {Surface Engineering of Synthetic Nanopores by Atomic Layer Deposition and Their Applications},
author = {Ceming Wang and Delin Kong and Qiang Chen and Jianming Xue},
journal= {arXiv preprint arXiv:1309.5696},
year = {2013}
}
备注
11 pages, 12 figures, review paper, accepted by Frontiers of Materials Science