具有应变控制的超薄自由站立单晶硅薄膜
介观与纳米尺度物理
2015-06-15 v1 材料科学
摘要
我们报道了厚度低至 6 nm 的超薄悬浮单晶平整硅薄膜的制备与表征。我们开发了一种方法，通过在硅薄膜周边添加应变补偿框架来控制薄膜中的应变，以避免释放后的薄膜发生屈曲。我们表明，通过改变框架的性质，可以以受控方式调节薄膜的应变。因此，既可以调控其力学性能，也可以调控其能带结构，所得薄膜为研究低维电子、光子和声子现象提供了独特的实验室。
引用
@article{arxiv.1303.1658,
title = {Ultra-Thin Free-Standing Single Crystalline Silicon Membranes With Strain Control},
author = {Andrey Shchepetov and Mika Prunnila and Francesc Alzina and Lars Schneider and John Cuffe and Hua Jiang and Esko I. Kauppinen and Clivia M. Sotomayor Torres and Jouni Ahopelto},
journal= {arXiv preprint arXiv:1303.1658},
year = {2015}
}