通过原位钾暴露调控少层石墨烯的电导率与自旋动力学
材料科学
2021-02-03 v1 强关联电子
摘要
化学修饰，例如新型材料的插层或掺杂，对于探索性材料科学以及物理与化学各领域的应用具有重要意义。在本工作中，我们报道了在利用微波电导监测样品电阻的同时，对化学剥离少层石墨烯进行系统的钾插层。我们发现，样品的电导率在钾暴露后约增加一个数量级。由 ESR 强度推断的载流子数目的增加也反映了这一增长。掺杂相在 ESR 中表现出两条非对称 Dysonian 线，这是存在移动载流子的常见标志。较宽组分的线宽随掺杂步骤而增加，然而较窄组分似乎具有恒定的线宽。
引用
@article{arxiv.2007.07057,
title = {Tuning Conductivity and Spin Dynamics in Few-Layer Graphene via In Situ Potassium Exposure},
author = {B. G. Márkus and O. Sági and S. Kollarics and K. F. Edelthalhammer and A. Hirsch and F. Hauke and P. Szirmai and B. Náfrádi and L. Forró and F. Simon},
journal= {arXiv preprint arXiv:2007.07057},
year = {2021}
}