压力下范德瓦耳斯异质结构的输运测量
介观与纳米尺度物理
2021-08-25 v1 应用物理
摘要
层间耦合对范德瓦耳斯异质结构的特性有强烈影响,且其强烈依赖于层间距。尽管已有相当多的理论关注,但由于实验困难,在纳米电路中利用可变层间耦合的实验很少。在此,我们展示了一种利用静水压力调节层间耦合的新方法:将基于范德瓦耳斯异质结构的纳米电路置于带有专用样品架设计的活塞-圆筒静水压力池中。该技术开辟了在压力下进行纳米器件输运测量的途径,可使用多达 12 个接触点且在制备层面不对样品施加限制。通过输运测量,我们证明了六方氮化硼封装层可良好保护范德瓦耳斯异质结构免受压力介质影响,并借助 TMDC/石墨烯异质结构上的弱局域化测量给出了压力影响层间耦合的实验证据。
引用
@article{arxiv.2103.14617,
title = {Transport measurements on van der Waals heterostructures under pressure},
author = {Bálint Fülöp and Albin Márffy and Endre Tóvári and Máté Kedves and Simon Zihlmann and David Indolese and Zoltán Kovács-Krausz and Kenji Watanabe and Takashi Taniguchi and Christian Schönenberger and István Kézsmárki and Péter Makk and Szabolcs Csonka},
journal= {arXiv preprint arXiv:2103.14617},
year = {2021}
}
备注
7 pages, 4 figures