压力诱导的石墨烯在氮化硼上的公度堆垛

将原子级薄的范德华材料组合成异质结构，为制造定制电子器件提供了一条强有力的途径。相邻层之间的相互作用强度（最容易通过层间分离来控制）对这些复合材料的电子性质有显著影响。在此，我们展示了通过局部改变石墨烯与氮化硼之间的层间分离，从而对层间相互作用实现前所未有的控制，这是通过用扫描隧道显微镜针尖施加压力实现的。对于石墨烯在氮化硼上对齐或近对齐的特殊情况，石墨烯晶格可以局部拉伸和压缩，以补偿两种材料之间轻微的晶格失配。我们发现，改变层间分离可直接调节晶格应变，并诱导针尖下方的公度堆垛。我们的结果激励了未来的研究：通过利用静水压力控制整个器件的层间分离，来定制范德华异质结构的电子性质。