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A3B 单层中由 Zak 相位诱导的拓扑边缘态

介观与纳米尺度物理 2019-03-27 v1

摘要

在晶体系统中,电荷极化与由体能带拓扑决定的 Zak 相位相关。非平庸电荷极化会诱导出伴随分数电荷的鲁棒边缘态。在 Su-Schrieffer-Heeger(SSH)模型中,已知即便存在反演对称性,电子跃迁的强调制也会引起非平庸电荷极化。此处,我们考虑双原子蜂窝晶格以引入此种强调制,即 A3_3B 片层。通过调节 A 与 B 原子间的跃迁比值和现场势能差,我们展示了由 Zak 相位表征的拓扑相变发生。此外,我们基于第一性原理计算提出 C3_3N 与 BC3_3 是可能的现实材料。不同于传统拓扑绝缘体,二者均展现出由 Zak 相位诱导、无需自旋轨道耦合与外场的拓扑边缘态。

关键词

引用

@article{arxiv.1902.02485,
  title  = {Topological Edge States Induced by Zak's Phase in A3B Monolayers},
  author = {Tomoaki Kameda and Feng Liu and Sudipta Dutta and Katsunori Wakabayashi},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1902.02485},
  year   = {2019}
}