钛在电迁移隧道结中的作用
材料科学
2015-06-23 v1
摘要
制备纳米级隧道结的标准途径是通过光刻制备的金纳米线的电迁移。在光刻过程中，通常使用薄粘附层（通常是钛）来促进金纳米线与基底的粘附。在此，我们证明了这种粘附层在电迁移隧道结的电输运行为中起着至关重要的作用。我们表明，与没有钛粘附层的金结相比，沉积在钛粘附层顶部的金所制造的结在环境条件下具有电稳定性。此外，我们发现由纯钛制造的电迁移结具有异常优异的电稳定性。基于我们的输运数据，我们提供了证据表明金 - 钛隧道器件中的势垒是由钛的天然氧化物形成的。
引用
@article{arxiv.1409.7689,
title = {The role of titanium in electromigrated tunnel junctions},
author = {Martin Frimmer and Gabriel Puebla-Hellmann and Andreas Wallraff and Lukas Novotny},
journal= {arXiv preprint arXiv:1409.7689},
year = {2015}
}