稳定且可重复的亚微米隧道结制备
介观与纳米尺度物理
2015-05-28 v1 超导电性
摘要
我们对采用标准双角度阴影蒸发技术制备的亚微米 隧道结的时间稳定性和可重复性进行了详细研究。我们发现，通过在蒸发前对衬底进行强力清洗，从而防止结的任何污染，可以获得完全稳定的氧化物势垒。我们还展示了对大量结的测量结果，证明了制备工艺的可重复性。在大量相同工艺制备的结中，测得的隧道电阻方差仅在百分之几的范围内。最后，我们研究了不同热处理对结势垒的影响。这对于涉及退火处理的多步制备工艺尤为重要。
引用
@article{arxiv.1105.6204,
title = {Fabrication of stable and reproducible sub-micron tunnel junctions},
author = {I. M. Pop and T. Fournier and T. Crozes and F. Lecocq and I. Matei and B. Pannetier and O. Buisson and W. Guichard},
journal= {arXiv preprint arXiv:1105.6204},
year = {2015}
}
备注
4 pages, 3 figures