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Si反型层中低密度移动电子的自旋磁化率与有效质量

介观与纳米尺度物理 2009-11-07 v2 无序系统与神经网络

摘要

我们在高迁移率 Si-MOS 样品中,针对宽范围的载流子密度 n(150)×1011n\simeq (1-50) \times 10^{11}cm2^{-2}(涵盖二维表观金属-绝缘体转变(2D MIT)附近区域)研究了 Shubnikov-de Haas (SdH) 振荡。利用在叠加且独立控制的平行与垂直磁场中测量 SdH 振荡的新技术,我们测定了移动电子的自旋磁化率 χ\chi^*、有效质量 mm^*gg^* 因子。这些量随密度降低而逐渐增大;在 2D MIT 附近,我们观察到 χ\chi^* 增强了约 4.7 倍。

关键词

引用

@article{arxiv.cond-mat/0105081,
  title  = {The low-density spin susceptibility and effective mass of mobile electrons in Si inversion layers},
  author = {V. M. Pudalov and M. E. Gershenson and H. Kojima and N. Butch and E. M. Dizhur and G. Brunthaler and A. Prinz and G. Bauer},
  journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0105081},
  year   = {2009}
}

备注

4 pages, 4 figures