氧化铈薄膜光学吸收光谱的温度行为
材料科学
2025-09-10 v1
摘要
氧化铈（hafnia）是制造光学涂层及各种功能介质以实现在不同热工况下稳定性能特性的极受欢迎的材料。本文研究了结构无定形的氧化铈薄膜在宽温度范围（7-296 K）内光学性能的行为。首次考察了氧化铈薄膜能隙中温度效应，并估算了导致电子水平热力学位移的有效声子能量为30 meV。我们还发现，电子-声子相互作用主要发生在氧基亚离子子系统中，从而导致观察到的变化。所获得的薄膜折射率值与独立预测数据相符，且随温度下降而减小。所发现的能量结构和电子-声子相互作用特征对于预测基于氧化铈薄膜的光电子器件在宽温度范围内的行为至关重要。
引用
@article{arxiv.2509.07419,
title = {Temperature behavior of optical absorption spectra in HfO2 thin films},
author = {A. O. Shilov and S. S. Savchenko and A. S. Vokhmintsev and V. A. Gritsenko and I. A. Weinstein},
journal= {arXiv preprint arXiv:2509.07419},
year = {2025}
}
备注
12 pages, 4 figures, 2 tables, 44 references