晶体生长中的表面电流与坡度选择
材料科学
2007-05-23 v2
摘要
我们面临着确定晶体表面生长过程中斜率相关电流的难题。该电流与 成正比，其中 表示原子落在台阶上时附着于上升（）或下降（）台阶的概率。如果着陆概率在空间上均匀，电流则与原子在生长表面中被 Incorporation 前行走的平均（有符号）距离成正比。坡度选择现象由电流的非对称性 消失所决定。我们将结果应用于原子受到台阶边缘势垒和向下导引，或台阶边缘势垒和引导作用的情况。在一般情况下，不将斜率相关电流 视为由不同机制分别贡献的总和是不正确的。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0601655,
title = {Surface currents and slope selection in crystal growth},
author = {Paolo Politi},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0601655},
year = {2007}
}
备注
6 pages. The text has been strongly revised and Fig.1 has been changed. Accepted for publication in the "Comptes Rendus Physique"