沉积动力学对外延生长的影响
材料科学
2016-08-31 v1
摘要
通过结合分子动力学模拟的动力学蒙特卡罗模拟，严格考虑了沉积原子与基底原子的相互作用，研究了沉积过程中的动力学效应（如转向效应和屏蔽效应）对外延生长（Cu/Cu(001)）的影响。我们发现了掠射角沉积所形成表面形貌的三个特征：(1) 增强的表面粗糙度，(2) 不对称的丘状结构，以及 (3) 丘状结构侧面的不对称斜率。关于它们对沉积角和基底温度的依赖性，模拟结果与先前的实验结果具有合理的一致性。掠射角沉积的特征生长主要是由转向和屏蔽效应导致的非均匀沉积通量引起的，其中转向效应起主要作用，而非屏蔽效应。本模拟中新观察到的是，即使实现了斜率选择，每个方向上丘状结构的侧面也由各种小面组成，而非全部处于一个选定的丘状角，并且斜率选择并不一定意味着小面选择。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0604243,
title = {Effects of deposition dynamics on epitaxial growth},
author = {Jikeun Seo and Hye-Young Kim and J. -S. Kim},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0604243},
year = {2016}
}
备注
9 pages, 10 figures