Al/Ni 周期性多层膜界面的光谱学研究
材料科学
2013-07-16 v1
摘要
利用电子诱导 X 射线发射光谱 (XES)，我们研究了两个仅在退火温度上有所不同的 Al/Ni 周期性多层膜：沉积态和 115°C 退火态。我们的目的是表明，除了 X 射线衍射所获得的信息外，XES 还能提供关于金属 - 金属界面化学性质的更多细节。分别通过分析 Al K 和 Ni L 发射带，确定了具有 Al 3p 和 Ni 3d 特征的价态分布。将多层膜的发射带与参考材料（纯 Al 和 Ni 金属以及 AlNi、AlNi 和 AlNi 金属间化合物）的发射带进行了比较。我们提供的证据表明，对于高达 115°C 的温度，AlNi 是该多层膜的主要成分。
引用
@article{arxiv.1307.3958,
title = {Spectroscopic study of interfaces in Al/Ni periodic multilayers},
author = {K. Le Guen and G. Gamblin and Philippe Jonnard and M. Salou and J. Ben Youssef and S. Rioual and B. Rouvellou},
journal= {arXiv preprint arXiv:1307.3958},
year = {2013}
}
备注
5 pages. Can also be found at : http://www.epjap.org/action/displayAbstract?fromPage=online\&aid=8011580