Ni/Ni$_{3}$Al 界面能：一项依赖温度的理论研究

利用平面波 {\textit{ab-initio}} 和蒙特卡罗技术，研究了 Ni/Ni$_{3}$Al 界面能，并对不同技术的结果进行了批判性比较。有两个问题值得特别关注：{\textit{ab-initio}} 计算中界面能对超胞尺寸的依赖性，以及界面能的温度依赖性。计算表明，从 0 K 到 1000 K，该能量降低了 1 mJ/m$^2$。