沿金属/陶瓷界面的反常扩散
材料科学
2018-12-11 v1
摘要
多晶 Ni 薄膜在 -AlO 衬底上的孔洞形成结合连续介质扩散分析表明，Ni 沿 Ni/-AlO 界面的扩散出奇地快。第一性原理计算表明，在共格 Ni/-AlO 界面处 Ni 空位形成能与迁移能均远小于块体 Ni 中，这意味着沿共格 Ni/-AlO 界面扩散的激活能与沿（非共格/大角度）晶界的相当。基于这些结果，我们建立了沿金属/陶瓷界面扩散的简单模型，将其应用于广泛的金属/陶瓷体系，并用若干第一性原理计算加以验证。这些结果表明，金属沿金属/陶瓷界面的快速扩散应是普遍的，但并非绝对。
引用
@article{arxiv.1807.04708,
title = {Anomalous Diffusion along Metal/Ceramic Interfaces},
author = {Aakash Kumar and Hagit Barda and Leonid Klinger and Michael W. Finnis and Vincenzo Lordi and Eugen Rabkin and David J. Srolovitz},
journal= {arXiv preprint arXiv:1807.04708},
year = {2018}
}