单壁碳纳米管作为阴影掩模用于纳米间隙制造
介观与纳米尺度物理
2009-11-11 v1 材料科学
摘要
我们描述了一种制造绝缘基片上 Pt 线中纳米尺度间隙的技术，利用单个单壁碳纳米管在金属沉积过程中作为阴影掩模。超过 80% 的器件显示出特征于直接电子隧穿的电流-电压关系。对电流-电压数据进行拟合可得制造的间隙宽度范围为 0.8-2.3 nm，这些尺寸非常适合用于单分子输运测量。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0604289,
title = {Single-Walled Carbon Nanotubes as Shadow Masks for Nanogap Fabrication},
author = {E. P. De Poortere and L. M. Huang and M. Huang and S. J. Wind and S. O'Brien and J. Hone and H. L. Stormer},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0604289},
year = {2009}
}