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基于湿法化学刻蚀的SiO2微悬臂梁释放的硅取向依赖性

应用物理 2017-07-03 v1 其他凝聚态物理

摘要

微悬臂梁(MCs)广泛应用于传感、探测及多种其他用途。除微领域中用途最广的材料Si外,SiO2微悬臂梁近来备受关注。本研究报道了采用湿法各向异性刻蚀技术制备SiO2微悬臂梁。利用单晶硅(c-Si)上热生长SiO2 (300 nm)层进行微加工。遵循标准光刻工艺,且光刻胶的曝光由无掩模直接激光写入机完成。讨论了c-Si晶圆上不同取向及其性质,以及对释放的SiO2微悬臂梁结构和完整性的影响。发现110取向耗时更长,且释放结构几乎必然发生粘连。另一方面,100和410取向由于沿微悬臂梁宽度的欠刻蚀,表现出更短的释放时间和更高的释放结构稳定性。

关键词

引用

@article{arxiv.1706.10126,
  title  = {Si Orientation Dependent Release of SiO2 Microcantilevers by Wet Chemical Etching Method},
  author = {Sagnik Middya and K. Prabakar},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1706.10126},
  year   = {2017}
}