铁磁纳米线中线性非形貌特征所致的可复现畴壁钉扎
介观与纳米尺度物理
2015-07-29 v1
摘要
我们证明，对于各层厚度与组分经过精心选择的多层磁纳米线，畴壁可被钉扎在仅由聚焦离子束系统中的离子辐照所产生的非形貌位点处。该钉扎源于辐照诱导的合金化，仅导致受影响区域的磁性质发生改变。利用洛伦兹透射电子显微镜，我们研究了畴壁在辐照位点处的钉扎行为。取决于辐照剂量，单一线状特征不仅钉扎了畴壁，而且起到控制其结构及钉扎强度的作用。
引用
@article{arxiv.1507.07847,
title = {Reproducible domain wall pinning by linear non-topographic features in a ferromagnetic nanowire},
author = {M. A. Basith and S. McVitie and D. McGrouther and J. N. Chapman},
journal= {arXiv preprint arXiv:1507.07847},
year = {2015}
}
备注
5 pages, 4 figures