反铁磁畴壁磁成像

Paul M. Sass; Wenbo Ge; Jiaqiang Yan; D. Obeysekera; J. J Yang; Weida Wu

doi:10.1021/acs.nanolett.0c00114

反铁磁畴壁磁成像

材料科学 2020-03-06 v1

作者: Paul M. Sass , Wenbo Ge , Jiaqiang Yan , D. Obeysekera , J. J Yang , Weida Wu

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摘要

畴壁或自旋织构的控制对于反铁磁体的自旋电子学应用至关重要。尽管已有诸多努力，直接以纳米尺度分辨率可视化反铁磁畴或畴壁一直具有挑战性，尤其在磁场中。在此，我们报道利用低温磁力显微镜(MFM)对若干单轴反铁磁体、拓扑绝缘体 MnBi $_2$ Te $_4$ 族和 Dirac 半金属 EuMnBi $_2$ 中畴壁的磁成像。我们的 MFM 结果显示，畴壁内的磁化率或净磁矩高于畴内。这些反铁磁体中的畴壁随机形成，具有强烈的温度和磁场依赖性。磁场中畴壁与畴结构的直接可视化不仅将促进拓扑反铁磁体本征现象的探究，也为功能反铁磁体中畴壁或自旋织构的控制与操纵开辟了新路径。

关键词

反铁磁畴壁磁力显微镜磁成像自旋电子学拓扑绝缘体 Dirac半金属

引用

@article{arxiv.1910.06488,
  title  = {Magnetic imaging of antiferromagnetic domain walls},
  author = {Paul M. Sass and Wenbo Ge and Jiaqiang Yan and D. Obeysekera and J. J Yang and Weida Wu},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1910.06488},
  year   = {2020}
}

备注

14 pages, 4 figures

反铁磁畴壁磁成像

摘要

关键词

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