用于铌酸锂与半导体薄膜异质集成的可靠微转印方法
光学
2023-04-28 v1 应用物理
摘要
高速 Pockels 调制与二阶非线性是光学系统中的关键组件，但硅和氮化硅等 CMOS 兼容平台缺乏这些能力。薄膜铌酸锂的微转印提供了一种解决方案，但为长相互作用长度和高 Q 谐振腔悬浮大面积薄膜具挑战性，导致转印良率低。我们提出一种新的源制备方法，可实现薄膜铌酸锂的可靠转印。我们将其成功应用于磷化镓和硅以展示其通用性，并通过随后无失败地转印 25 个铌酸锂薄膜来估算转印良率。
引用
@article{arxiv.2304.13760,
title = {Reliable micro-transfer printing method for heterogeneous integration of lithium niobate and semiconductor thin films},
author = {Tom Vandekerckhove and Tom Vanackere and Jasper De Witte and Stijn Cuyvers and Luis Reis and Maximilien Billet and Günther Roelkens and Stéphane Clemmen and Bart Kuyken},
journal= {arXiv preprint arXiv:2304.13760},
year = {2023}
}
备注
12 pages, 8 figures