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还原氧化石墨烯薄膜作为有机电子学的超阻隔层

材料科学 2013-10-16 v1

摘要

对于即使在正常大气条件下也容易降解的基于有机材料的电子器件,使用气密性阻隔层进行封装对于延长其寿命至关重要。当前的挑战是开发不透水、柔韧且 preferably 透明的“超阻隔层”。另一个重要要求是它们必须与有机电子制造工艺兼容(即必须是溶液可加工的、可在室温下沉积且化学性质惰性)。在此,我们报告了由均匀连续的薄(约 10 nm)还原氧化石墨烯(rGO)薄膜封装的聚 (3-己基噻吩)(P3HT)薄膜寿命增加了 1,300 小时。这种针对氧气和水蒸气扩散的保护水平 substantially 优于传统的聚合物阻隔层(如 CytopTM),后者尽管厚度为 400 nm,但仅在 350 小时后便发生降解。利用原子力显微镜、X 射线光电子能谱和高分辨率透射电子显微镜进行的分析表明,rGO 卓越的氧气/湿气阻隔性能源于其不可渗透片层内紧密的层间距离堆积以及针孔的缺失。这些材料特性与增强的 500 小时滞后时间相关联。我们的结果为设计用于广泛封装应用的高性能、溶液可加工透明“超阻隔层”提供了新见解。

关键词

引用

@article{arxiv.1310.3915,
  title  = {Reduced graphene oxide thin films as ultrabarriers for organic electronics},
  author = {Hisato Yamaguchi and Jimmy Granstrom and Wanyi Nie and Hossein Sojoudi and Takeshi Fujita and Damien Voiry and Mingwei Chen and Gautam Gupta and Aditya D. Mohite and Samuel Graham and Manish Chhowalla},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1310.3915},
  year   = {2013}
}

备注

Advanced Energy Materials (2013)