综述：面向高性能非线性集成光子学的氧化石墨烯二维薄膜

利用光学非线性工作的集成光子器件为全光信息处理提供了有力方案，其处理速度远超电子处理，并兼具紧凑尺寸、高稳定性、高可扩展性和低功耗等额外优势。对高性能非线性集成光子器件日益增长的需求促进了新型材料的混合集成，以应对现有集成光子平台的局限，如强非线性光学吸收或光学非线性不足。近来，氧化石墨烯（GO）以其大光学非线性、改变性质的高灵活性以及简便的制备工艺受到显著关注，实现了许多性能提升且具有新能力的混合非线性集成光子器件。本文综述 GO 在非线性集成光子学中的应用。首先，概述 GO 的光学性质及其片上集成所需的制备技术。接着，综述最先进的 GO 非线性集成光子器件，并比较不同含 GO 集成平台的非线性光学性能。最后，讨论该领域的挑战与展望。