BiSrCaCuO 单台面制备的“快速简便”技术
超导电性
2015-06-22 v1
摘要
提出了一种利用湿法刻蚀技术制备独立 BiSrCaCuO 台面结构的方法。所制备的台面厚度可远超通常研究的样品。与标准的离子束刻蚀方法相比,该工艺所需时间大幅缩短。该过程可控,能够提供可接受的台面制备精度。获得了显示约瑟夫森特性的样品电流 - 电压特性曲线,并与其它课题组制备的类似结构的特性进行了定性比较。
引用
@article{arxiv.1409.3950,
title = {"Quick and dirty" technology for fabrication of a single BiSrCaCuO mesas},
author = {E. A. Vopilkin and A. V. Chiginev and L. S. Revin and A. N. Tropanova and I. Yu. Shuleshova and A. I. Okhapkin and A. D. Shovkun and A. B. Kulakov and A. L. Pankratov},
journal= {arXiv preprint arXiv:1409.3950},
year = {2015}
}
备注
4 pages, 7 figures