一种具有原子级精度且与主流光刻技术兼容的少层黑磷湿法刻蚀方法
材料科学
2019-01-08 v1
摘要
本文报道了一种通过自上而下的纳米加工方法制备的少层黑磷厚度图形。这是通过一种新的湿法刻蚀工艺实现的，该工艺能以原子层精度刻蚀少层黑磷的选定区域。该方法与深紫外及电子束光刻工艺兼容，且不引入氧及其他常见掺杂源。其为少层 BP 材料与器件的大规模制造提供了一种可行的图形化途径。
引用
@article{arxiv.1901.01682,
title = {A wet etching method for few-layer black phosphorus with an atomic accuracy and compatibility with major lithography techniques},
author = {Teren Liu and Tao Fang and Karen Kavanagh and Guangrui and Xia},
journal= {arXiv preprint arXiv:1901.01682},
year = {2019}
}