中文

利用扫描隧道显微镜探测拓扑绝缘体 Bi$_2$Se$_3$ 薄膜中的狄拉克费米子动力学

介观与纳米尺度物理 2015-05-08 v2 材料科学

摘要

利用扫描隧道显微镜和谱学研究了拓扑绝缘体 Bi2_2Se3_3 超薄薄膜中狄拉克费米子的飞秒动力学。在二维极限下,体电子发生量子化,且该量子化可在单五原子层水平上通过薄膜厚度进行调控。通过研究台阶处驻波(准粒子干涉图样)的空间衰减,我们直接测量了拓扑表面态电子的相位弛豫长度 lϕl_{\phi} 和非弹性散射寿命 τ\tau 对能量及薄膜厚度的依赖性。我们发现 τ\tau 表现出显著的 (EEF)2(E-E_F)^{-2} 能量依赖性,并随薄膜厚度增加而增大。我们表明,所揭示的特征是表面态与体态之间电子 - 电子散射的典型特征。

关键词

引用

@article{arxiv.1504.03397,
  title  = {Probing Dirac Fermion Dynamics in Topological Insulator Bi$_2$Se$_3$ Films with Scanning Tunneling Microscope},
  author = {Can-Li Song and Lili Wang and Ke He and Shuai-Hua Ji and Xi Chen and Xu-Cun Ma and Qi-Kun Xue},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1504.03397},
  year   = {2015}
}

备注

5 pages, 4 figures, to be published in Physical Review Letters