三重拓扑半金属中的光致界面手性模
介观与纳米尺度物理
2019-10-16 v1
摘要
我们研究了被左右手椭圆偏振波照射的三重拓扑半金属两区域界面处的手性电子模。利用 Floquet 理论分析了辐射对半金属能带结构的影响。发现了两种不同的界面模解，其手性依赖于辐照的相位。我们还考虑了归因于无色散平带与圆锥带之间跃迁的反常霍尔响应。
引用
@article{arxiv.1907.05169,
title = {Photoinduced interfacial chiral modes in threefold topological semimetal},
author = {SK Firoz Islam and A. A. Zyuzin},
journal= {arXiv preprint arXiv:1907.05169},
year = {2019}
}
备注
5 pages