慢速声子：超薄硅膜中的色散关系
介观与纳米尺度物理
2012-09-12 v1
摘要
我们报告了自由站立硅膜（厚度约为 8 nm）中超声声学声子色散关系的变化。我们观察到，与体材料值相比，基本弯曲模式的相速度和群速度降低了一个数量级以上。纳米结构中色散关系的改变对于纳米和微机电系统（MEMS/NEMS）以及光机械器件中的噪声控制具有重要后果。
引用
@article{arxiv.1209.2324,
title = {Phonons in Slow Motion: Dispersion Relations in Ultra-Thin Si Membranes},
author = {John Cuffe and Emigdio Chavez and Andrey Shchepetov and P-Olivier Chapuis and El Houssaine El Boudoutie and Francesc Alzina and Timothy Kehoe and Jordi Gomis-Bresco and Damian Dudek and Yan Pennec and Bahram Djafari-Rouhani and Mika Prunnila and Jouni Ahopelto and Clivia. M. Sotomayor Torres},
journal= {arXiv preprint arXiv:1209.2324},
year = {2012}
}
备注
5 pages