无限层 $\mathrm{Nd_{1-x}Sr_{x}NiO_{2}}$ 薄膜的相图与超导穹顶
超导电性
2020-10-06 v2 强关联电子
摘要
合成并研究了 Sr 掺杂水平 x 从 0.08 到 0.3 的无限层 Nd1-xSrxNiO2 薄膜。我们发现超导穹顶位于 0.12 至 0.235 之间，且在欠掺杂和过掺杂区均伴随弱绝缘行为。该穹顶类似于电子掺杂的 214 型及无限层铜氧化物超导体中的情况。对于 x 高于 0.18，正常态霍尔系数（）随温度降低由负变正。符号转变温度从过掺杂侧随 x 减小而单调下降，并在穹顶中点附近逼近超导穹顶，表明随着掺杂浓度跨越穹顶中心，费米面发生了重构。
引用
@article{arxiv.2004.11281,
title = {Phase diagram and superconducting dome of infinite-layer $\mathrm{Nd_{1-x}Sr_{x}NiO_{2}}$ thin films},
author = {Shengwei Zeng and Chi Sin Tang and Xinmao Yin and Changjian Li and Mengsha Li and Zhen Huang and Junxiong Hu and Wei Liu and Ganesh Ji Omar and Hariom Jani and Zhi Shiuh Lim and Kun Han and Dongyang Wan and Ping Yang and Stephen John Pennycook and Andrew T. S. Wee and Ariando Ariando},
journal= {arXiv preprint arXiv:2004.11281},
year = {2020}
}
备注
23 pages (including Supplemental Material), 12 Figures (including 8 supplemental figures)