硒掺杂碲化铋超薄膜热电性能的优化与表征
材料科学
2024-10-29 v1
摘要
碲化物材料的热电性能通常通过在其晶体中用硒替代碲来提升。然而,大多数工作集中于体块晶体,而对二维薄膜鲜有研究。本文中,我们使用三源热共蒸发技术优化了硒掺杂碲化铋 (BiTeSe) 薄膜的制备。我们系统地表征了包括塞贝克系数和电阻率在内的热电性能,以评估该材料在近室温热电应用中的表现。薄膜在严格控制条件下沉积,精确监测铋、碲和硒的蒸发速率以获得所需的化学计量比和晶相。最后,我们研究了超薄区域内 BiTeSe 的热电性能。我们持续获得厚度约 30 nm、塞贝克系数为 400 V/K 且功率因子为 1 mW/mK 的薄膜。
引用
@article{arxiv.2410.20705,
title = {Optimization and Characterization of Thermoelectric Properties in Selenium-Doped Bismuth Telluride Ultra Thin Films},
author = {Kien Trung Nguyen and Lan Anh Dong and Hien Thi Dinh and Thi Huyen Trang Bui and Son Truong Chu and Thuat Nguyen-Tran and Chi Hieu Hoang and Hung Quoc Nguyen},
journal= {arXiv preprint arXiv:2410.20705},
year = {2024}
}