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等离子体凝聚装置沉积过程中纳米结构薄膜生长中的噪声诱导效应

介观与纳米尺度物理 2021-01-20 v1

摘要

我们对描述凝聚过程中纳米结构薄膜生长的反映扩散型随机模型中的噪声诱导效应进行了全面研究。我们引入了等离子体凝聚装置中衬底附近电场引起的相邻单原子层间的吸附物外通量。我们考虑到电场强度围绕其均值波动。我们讨论了外通量的规则部分与随机部分对吸附系统动力学的竞争性影响。将表明,所引入的涨落在同质系统中诱导一级相变,在空间扩展系统中支配图样形成;这些通量部分控制图样动力学、空间序、表面形貌、吸附物岛平均尺寸的增生规律、表面结构的类型与线度。详细分析了涨落强度对纳米结构表面的标度与统计性质的影响。本研究深入揭示了各向异性吸附系统图样形成过程中噪声诱导效应的细节。

关键词

引用

@article{arxiv.2009.14076,
  title  = {Noise induced effects at nano-structured thin films growth during deposition in plasma-condensate devices},
  author = {V. O. Kharchenko and A. V. Dvornichenko and D. O. Kharchenko},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2009.14076},
  year   = {2021}
}

备注

19 pages, 13 figures