电磁涨落诱导力对薄金属膜的影响研究
量子物理
2009-11-13 v1
摘要
利用金属介电函数的等离子体模型，我们计算了真空中自由站立金属膜上电磁涨落诱导的力，该力是薄膜尺寸和等离子体频率的函数。单位面积上的力是吸引的，对于给定的膜厚，它在特定的等离子体值处显示出强度最大值，这无法基于电磁相互作用的非推迟描述来预测。如果薄膜沉积在基底上或与平板相互作用，力的符号和大小都会改变。结果表明，通过改变基底的等离子体频率，力可以从吸引变为排斥。对薄膜边界上的力与薄膜和基底之间的力的详细比较表明，对于50-100纳米厚的薄膜，当薄膜-基底距离与薄膜厚度相当时，两者相当。
引用
@article{arxiv.0808.2422,
title = {A study of the electromagnetic fluctuation induced forces on thin metallic films},
author = {Andrea Benassi and Carlo Calandra},
journal= {arXiv preprint arXiv:0808.2422},
year = {2009}
}