使用平行电子束的改进型电子束诱导沉积金属纳米结构阵列
材料科学
2009-11-13 v1
摘要
本文开发了一种使用平行电子束的改进型电子束诱导沉积方法。该方法依赖于电子束照射绝缘表面时表面电势的积累。绝缘表面上的尖锐边缘意味着存在强电场，这些电场导致金属蒸气在这些区域进行位点特异性成核。无需使用精细探针即可沉积小至20 nm的特征尺寸，从而克服了探针尺寸对分辨率的限制。使用纯金属蒸气也使得该过程本质上是清洁的。
引用
@article{arxiv.0809.1548,
title = {Modified Electron Beam Induced Deposition of Metal Nanostructure Arrays using a Parallel Electron Beam},
author = {Joysurya Basu and C. Barry Carter and R. Divakar and Vijay B. Shenoy and N. Ravishankar},
journal= {arXiv preprint arXiv:0809.1548},
year = {2009}
}
备注
14 Pages, 3 figures, to appear in Applied Physics Letters